放開DUV光刻機出口！ASML回應中國市場問題

這次提到的是DUV光刻機出口，并非更先進的EUV光刻機。

10月14日，荷蘭ASML首席財務官Roger Dassen就向中國出口光刻機的問題上發表了口頭聲明。他表示，在一定情況下，向中國出口DUV（深紫外）光刻機無需美國許可。

有人表示，有了光刻機的支持，中國半導體發展將有很大進步。

但也有人評論稱，這次中國企業隨便購買的只是DUV光刻機，并不是技術含量最高的EUV（極紫光）光刻機。

ASML：DUV出口不受美國限制

當地時間10月14日，半導體巨頭、全球光刻機領頭企業ASML發布了其2020年第三季度財報，請首席財務官羅杰·達森（Roger Dassen）也接受了視頻采訪。

當被問及美國的半導體出口禁令對ASML的業務有何種影響時，達森回應稱，他們注意到了美方的禁令，也意識到了禁令對中國客戶的影響。隨后達森表示：“如果要解釋一下美國的規定對ASML有什么影響的話，對于的中國客戶，我們還是可以直接從荷蘭向他們出口DUV光刻機，無需任何出口許可。”

但他隨后也補充稱，如果相關系統或零件是從美國出口的，那這些設備仍然需要得到美方的許可。

達森表示，ASML將盡最大努力，盡可能為所有客戶繼續提供服務和支持。

根據公開的財報電話會議錄音，ASML首席執行官彼得·韋尼克（Peter Wennink）也在會議上確認了這一點。

韋尼克稱，根據當前美國的規定，直接從荷蘭向中國出口的DUV光刻機不受影響。

重視中國市場，第二次表態

事實上這是最近AMSL第二次針對中國市場的表態。

在今年9月17日，美國制裁華為禁令生態后的第三天，ASML全球副總裁沈波先生就表態，ASML作為全球半導體行業的合作伙伴，未來ASML將會加快在中國市場的布局。

目前中國是最大的芯片需求國，現在又需要生產大量的先進制程的芯片，這自然就需要用到大量的EUV光刻機。

面對這樣一個潛力龐大的市場，AMSL自然不愿放棄。

根據ASML發布的財報，2020年第三季度ASML光刻機凈銷售額達31億歐元，其中中國大陸市場的營收占到21%。

今年5月，ASML與無錫高新區簽署了戰略合作協議，在無錫高新區內擴建升級ASML光刻設備技術服務（無錫）基地。

而此前，ASML已在北京、上海、深圳、無錫等地開設分公司,其中深圳更是其在亞洲最大的軟件研發中心。

不是EUV，頂尖光刻機仍是問題

值得一提的是，達森和韋尼克都強調的是DUV光刻機出口，并未提到更先進的EUV（極紫外）光刻機。

而彭博社也在14日的報道中強調，DUV的規則不適用于EUV光刻機。ASML必須獲得許可證才有可能向中國企業出口EUV光刻機。但荷蘭政府已經暫緩了EUV光刻機出口許可，一直到現在都沒有批準。

EUV光刻機和DUV光刻機有什么不同？

根據曝光源的不同，光刻機分為EUV型（極深紫外線）、DUV型（深紫外線）。從制程范圍來看，DUV可以制造28nm-7nm之間的各種芯片，但7nm以下的先進制程必須用到EUV光刻機。

如果沒有EUV光刻機，那個國產芯片制程只能止步7nm。

而ASML是目前全球唯一能夠量產EUV光刻機的廠商。

據了解，EUV光刻機不需要多重曝光，一次就能曝出想要的精細圖形，沒有超純水和晶圓接觸，在產品生產周期、光學鄰近效應矯正的復雜程度、工藝控制、良率等方面都有明顯優勢。

就是這么一臺設備，一臺需要10萬個零配件，價值高達7億人民幣，而且一年產量只有幾十臺，且有限供應給三星、臺積電等大客戶。此前中芯國際2018年5月才下單給ASML。

國內廠商想購買一臺，太難。

中科院入局，國內廠商突破

事實上，ASML最擔心的還是國內廠商實現技術突破，從而導致ASML損失國內市場。

據悉，雖然目前國產光刻機還無法與ASML的先進光刻機相比，但國內廠商一直都在突破，預計在2021年就能夠上市28nm的國產光刻機。

另外，中科院也已經正式宣布，要集中力量解決主要問題，像光刻機等。

9月16日，中科院院長白春禮在中國科學院 “率先行動”計劃第一階段實施進展發布會上表示，“率先行動”計劃第二階段要把美國 “卡脖子”的清單變成科研任務清單進行布局，集中全院力量聚焦國家最關注的重大領域攻關，這其中就包括了光刻機。

除中科院外，華為等廠商也加速研發突破光刻機等技術，僅華為就計劃在2年內投入80億美元，要在光刻機技術方面實現突破。一旦國產光刻機實現突破，ASML在DUV光刻機上價格優勢也不再有。

尾聲

從ASML角度來看，出售DUV光刻機一方面為了打開國內的市場，另一方面也為了延緩國產光刻機的研發進度。

但在美國制裁的背景下，整個行業指望設備完全國產化也是不現實的事情，所以購買ASML的DUV光刻機解決燃眉之急應該是絕大多數企業的首選。

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